Samsung планирует прорыв к 2031 году с 1-нанометровым техпроцессом для полупроводников

Компания Samsung намерена совершить прорыв в области литографии, представив к 2031 году техпроцесс с 1-нанометровыми нормами, который уже окрестили «полупроводником мечты». Для этого ведутся научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы, запланированные к завершению к 2030 году, с целью внедрения метода «вилки» — непроводящей перегородки между элементами GAA, что позволит разместить больше транзисторов на той же площади. Об этом сообщает pepelac.news.