Слух: Китайские специалисты разработали машину для печати передовых микросхем

Согласно информации китайского издания SCMP, команда из Шанхайского института оптики и точной механики в Китае разработала платформу источника EUV-света, конкурентоспособную по сравнению с существующими машинами для EUV-литографии, единственным производителем которых является голландская компания ASML. Этот производитель не может поставлять Китаю свою продукцию.

Как сообщает издание, это означает, что китайские литейные предприятия смогут печатать более детализированные схемы на кремниевых пластинах без необходимости многократного шаблонирования. Этот прорыв значит, что Китаю больше не нужно беспокоиться о санкциях США, которые могут помешать получать передовые чипы.

Литографические машины EUV важны Китаю для производства, поскольку они позволяют печатать схемы на кремниевых пластинах с линиями тоньше человеческого волоса. Эти микросхемы должны быть очень тонкими, чтобы можно было точно изготовить прикладной процессор (AP) для проектирования и размещения миллиардов транзисторов.

Если китайские вендоры смогут выпускать телефоны на базе 2-нм AP, как Apple, это будет означать большой прорыв для Китая и подтвердит инновационность страны. Ограничения США по отношению к Huawei и другим китайским компаниям в дальнейшем не будут иметь большого влияния, если Китай успешно разработает собственную технологию EUV.

Известно, что за эти процессы отвечает бывший главный научный сотрудник ASML Лин Нань, который как раз и возглавляет команду разработчиков в Шанхае.

Важность успехов китайских специалистов объясняется тем, что литографическая машина EUV в наибольшей степени отвечает за перевод производства чипов с 10-нм техузла на 2-нм, который ведущие литейные компании используют для производства самых современных чипов. И, чем ниже технологический узел, тем меньше набор функций чипа, включая транзисторы. По мере уменьшения технологических узлов в чипе может поместиться больше транзисторов, что делает устройство более мощным и энергоэффективным.