Как выяснил CNews, к 2030-2032 гг. на отечественные радиоэлектронные предприятия будут внедрены 122 российских установки для производства микросхем. Об этом сообщил представитель Минпромторга на конференции «Электронное машиностроение — 2025».
Уже три опытно-конструкторские работы (ОКР) для производства оборудования завершены. Среди них ОКР «Прогресс ППИ»: установка проекционного переноса изображения на пластину на уровне топологии до 350 нм (работа велась «ЗНТЦ» в 2021-2024 гг.), установка контроля топологического рисунка фотошаблонов или ОКР «Прогресс КТФ».
Девять установок будут закончены в 2025 г. К ним относятся установка молекулярно-лучевой эпитаксии (АО «НТО»), оборудование автоматизированного прогона и тренировки СВЧ приборов (РТУ МИРЭА), кластер плазмо-химического травления (АО «НИИМЭ»), установка для выращивания кристаллов Ge и др.
К 2030 г. планируется провести 110 конструкторских работ для создание установок, необходимых для производства микроэлектроники. Это следует из программы развития электронного машиностроения.
Подписывайтесь на наши новости в Telegram:
Читайте нас на VK: